Wir entwickeln hochleistungsfähige Dünnschichten als Grundlage für fortschrittliche Mikrosysteme und elektronische Bauelemente.
Unsere Forschung konzentriert sich auf die Entwicklung neuartiger Materialien und skalierbarer Produktionsprozesse, wobei wir physikalische und chemische Gasphasenabscheidung mit fortschrittlichen Charakterisierungstechniken kombinieren. Wir analysieren Materialeigenschaften von der atomaren bis zur makroskopischen Ebene und optimieren funktionale Eigenschaften wie Piezoelektrizität und Oberflächenwechselwirkungen.
Diese Dünnschichten dienen als wichtige Bausteine für piezoelektrische, photonische und magnetische Anwendungen in der Industrie und im Hightech-Bereich.
Wir bieten umfassende Expertise in den Bereichen Dünnschichtabscheidung, Charakterisierung und Modellierung für fortschrittliche Materialsysteme.
Entwicklung von Dünnschichten und Mehrschichtstrukturen für piezoelektrische MEMS-Aktuatoren
Entwicklung von Dünnschichtstapeln aus mehreren Materialien für HF-MEMS und optische Bauelemente
Abscheidung und Optimierung transparenter leitfähiger Oxide für Quantenanwendungen
Entwicklung von Wellenleitern, Dielektrika und elektrooptischen Dünnschichten für PICs