Entwicklung einer Hochleistungs-PZT-Schicht basierend auf Sputtertechnologie

Partner Call offen bis: 21. September 2020

Beginn des Projekts: 1. Oktober 2020

Zielsetzung

Ziele des Projektes ist die Entwicklung eines fortschrittlichen Piezo-Dünnschicht-Abscheidungsverfahrens mit einem Sputterwerkzeug für PIEZO-MEMS-Anwendungen.